半导体产品的生产制造需要多种先进的精密技术，堪称工业制造业的瑰宝。
特别是光刻设备是大规模集成电路制造的核心设备，其核心技术目前仍只有国外少数大公司掌握。值得庆幸的是，虽然国内半导体设备制造商的崛起举步维艰，但在国内整合和完善国产替代品方面已经取得了长足进步。
近日，福建安芯半导体公司交付两台价值近千万元的光刻机。客户为海康威视及国内CMOS领域科研院所。
可以看到光刻设备分为接触式、接近式和步进式。目前国内最常用的是步进曝光机。光刻设备是大规模集成电路生产中的核心设备，其生产和维护需要先进的光学电子产业基础设施。全球只有少数厂商掌握了这种设备，包括ASML、尼康、佳能。因此，光刻设备价格昂贵。
福建安芯半导体是福建省泉州市星谷南安分公司引进的第一家高科技半导体设备公司，主要从事光学设备翻新、改造、安装和调试，并提供新型光学设备销售和技术支持。是独立开发的。及刻蚀设备、半导体整线解决方案，产品涵盖集成电路、LED、MEMS、显示面板、光伏等黄光设备领域。除了为客户提供半导体生产线设备整体解决方案外，我们还提供尖端半导体器件设计和制造相关的技术咨询。福建安芯半导体总经理张琪表示，目前公司还不能完全进行自主研发，但通过转型升级，已经实现了60%至70%的国产化。
制造半导体器件除了光刻设备外还需要多种设备，但其中又不可缺少刻蚀设备。据近日报道，中国中微半导体设备有限公司现已具备生产高端刻蚀设备的能力，其5纳米刻蚀设备已量产并用于台积电5纳米生产线上。
官网介绍，中微半导体是一家总部位于中国的微加工高端装备公司，为全球集成电路和通用半导体行业提供极具竞争力的高端装备和优质服务。中微研发的等离子刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微型器件的重要装备，能够对各种器件进行微米、纳米尺度的加工。
公司年报显示，中微电子研发的高端刻蚀设备应用于国际知名客户的65纳米至7纳米芯片生产线。同时，公司根据先进集成电路制造商的需求，开发了5纳米刻蚀设备来加工多个关键步骤，并已获得行业领先客户的批量订单。虽然中微没有明确表示，台积电是唯一一家生产5nm工艺的公司，所以业界猜测这个客户就是台积电。
中微电子目前正在配合客户需求开发新一代刻蚀设备和刻蚀工艺，其中包括更先进的大马士革刻蚀工艺，可覆盖5纳米以下的刻蚀要求，并针对更多种类的关键应用。开发一种设备
来源：21IC网络编译
作者：王丽英
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